Wir verfügen über verschiedene Anlagen zur Metallverarbeitung. Dazu gehören Pressen und ein Härteofen.

• Hydraulische Ziehpresse DHC-1000/600 (Schuler)

Ansprechpartner: Dr.-Ing. Tim Rostek

Wir verfügen über weitere kleinere Pressen, der Ansprechpartner ist hier: André Jungeilges

Wir verfügen über verschiedene Anlagen, die sowohl zur Halbzeugherstellung und -vorbereitung als auch zur Bauteilfertigung erforderlich sind. Dazu gehört eine Portal-Schneidanlage zum automatischen Zuschnitt sowie Prepreg-, Harzinjektionsanlagen und hydraulische Pressen.

Halbzeugherstellung & -vorbereitung 

• Portal-Schneidanlage zum automatischen Zuschnitt
• Prepreg-Anlage BaseCoater BC 46

Halbzeugverarbeitung & Bauteilfertigung

• Harzinjektionsanlage Tartler GmbH
• Harzinjektionsanlage Wolfangel GmbH
• Hydraulische Presse LaboPress P200S Vogt
• Servomotorische Spindelpresse Synchropress GmbH
• Hydraulische Presse Hessmert

Ansprechpartner:  Julian Lückenkötter

Technische Spezifikationen:

• Manueller / Automatischer Beschnitt
• Tangential geführtes, rotierendes Messer
• Arbeitsfläche: 1.000 mm x 580 mm
• HPGL-Schnittstelle (Konvertierung von z.B. DXF-Format möglich)
• Vakuumtisch zur sicheren Fixierung des Schneidguts

Anwendung:

Die Portal-Schneidanlage CAMTEC AUTOMASK Vario wird für den Zuschnitt flächiger Schablonen sowie trockener oder vorimprägnierter Faserhalbzeuge eingesetzt.

Technische Spezifikationen:

• Arbeitsbreite / Walzenbreite: 250 mm /300 mm
• Geschwindigkeit: 0,1 – 2 m/min
• Zugkraft: 25 – 250 N
• Heißluft-Trocknung bei max. 235°C
• Volumen des Beschichtungsbecken: 1 Liter

Anwendung:

Automatisiertes Beschichtungsanlage zur Herstellung von vorimprägnierten Faser-Matrixhalbzeugen (Prepregs). Die Prozess der Prepreg-Herstellung besteht aus dem Abwickeln, der Beschichtung, der Wärmebehandlung (Trocknen und Kühlen) sowie dem Aufwickeln.

Technische Spezifikationen:

• Verarbeitung von bis zu drei Komponenten
• Mischungsverhältnisse A:B:C bis zu 1:1:1
• Volumenstrom- / Druckgeregelter Injektionsprozess
• Max. Injektionsdruck: 60 bar
• Materialdurchsatz: bis zu 1 kg/min
• Beheizung der Vorratsbehälter und des Schlauchpakets bis 130 °C
• Messsysteme/Sensorik: Injektionsdruck, Temperaturen, Mischverhältnis
• Prozessüberwachung

Anwendung:

Vorwärmen, Dosieren und Injizieren von EP oder PU-Harzen zur Herstellung von FKV- oder FKV-Metall-Hybridbauteilen mittels (vakuumunterstütztem) Harzinjektionsverfahren (Resin Transfer Moulding, RTM).

Technische Spezifikation:

• Verarbeitung von bis zu drei Komponenten
• Mischungsverhältnisse A:B:C bis zu 1:1:1
• Druckgeregelter Injektionsprozess
• Max. Injektionsdruck: 40 bar
• Materialdurchsatz: bis zu 500 g/min
• Beheizung der Vorratsbehälter und des Schlauchpakets
  bis 120 °C
• Messsysteme/Sensorik: Injektionsdruck, Temperaturen, Dosierverhältnisse

Anwendung:

Vorwärmen, Dosieren und Injizieren von EP oder PU-Harzen zur Herstellung von FKV- oder FKV-Metall-Hybridbauteilen mittels (vakuumunterstütztem) Harzinjektionsverfahren (Resin Transfer Moulding, RTM).

Technische Spezifikationen:

• Presskraft stufenlos einstellbar (SPS-Steuerung)
• Presskraft: 1,2-24,5 kN
• Werkzeugplatten bis 300 °C beheizbar
• Kühlung der Werkzeugplatten mittels Wasser/Druckluft-Gemisch
• Arbeitsfläche: 200 mm x 200 mm
• Einbauhöhe: 175 mm
• Hubgeschwindigkeit: 20 mm/sec (Schnellgang), 0,5 mm/sec (Schleichgang)

Anwendung:

Die LaboPress P200S ist als Allrounder für vielfältige Aufgabenstellungen und Laboranwendungen geeignet. Durch Temperatur- und Kraftsteuerung geeignet zur wiederholgenauen Herstellung von Proben und kleineren Bauteilen z.B. mittels Prepreg-Pressverfahren.

Technische Spezifikationen:

• Maximale Presskraft:  300 kN
• Stößelgeschwindigkeit: 10 mm/s (Handbetrieb), 50 mm/s (Automatikbetrieb)
• Arbeitsfläche: 1200 x 700 mm
• Einbauhöhe: 750 mm

Anwendung:

Universell einsetzbare Werkzeugprobier- und Produktionspresse mit hochgenauer Wegregelung und optionaler Kraftregelung.

Technische Spezifikationen:

• Maximale Presskraft: 500 kN
• Max. Stößelgeschwindigkeit: 35 mm/s (aufwärts), 70 mm/s (abwärts)
• Arbeitsfläche: 1300 mm x 1800 mm
• Einbauhöhe: 1600 mm

Anwendung:

Universell einsetzbare ölhydraulische Oberkolbenpresse in Säulenkonstruktion zur Durchführung von Tuschierarbeiten sowie zur Herstellung von FKV- und FKV-Metall-Hybridbauteilen z.B. mittels Harzinjektionsverfahren.

Technische Spezifikation

• Aufgabegut: Pulver, Schüttgüter, Suspensionen
• Maximale Siebgutmenge: 25 kg
• Messbereich: 25 µm - 125 mm
• Maximale Anzahl Fraktionen: 13 / 9
• Minimale Anzahl Fraktionen: 3
• Amplitude: digital; 0,2 - 2,2 mm
• Siebung: trocken und nass

Anwendung

Trennung, Fraktionierung, Korngrößenbestimmung bei pulverförmigen Werkstoffen und Schüttgütern.

Technische Spezifikation

• Aufgabegut: Pulver
• Maximale Aufgabemenge: 6 kg (Bronze oder Stahl)
• Klassierungsbereich: 4 - 200 µm
• Schutzatmosphäre: Argon oder Stickstoff
• Höchste Drehzahl des Sichterrades: 10000 min^-1

Anwendung

Flexible Klassierung pulverförmigen Werkstoffen in kleinen Mengen. Trennung von Pulver in feine und grobe Pulverfraktionen insbesondere auch im Bereich < 25 µm, wo konventionelle Siebverfahren i.d.R. versagen.

Technische Spezifikation

• Maximale Temperatur: 2000 °C
• Verdüsungsmedium: Argon oder Stickstoff
• Maximaler Gasdruck: 30 bar
• Maximale Gastemperatur: 450 °C
• Zerstäuber-Düsensystem: Freifall- und Clouse-Coupled-Zerstäuber
• Tiegelvolumen: 3 l
• Maximale Pulvermenge (Stahl): 22 kg
• Zykluszeit: 3 - 4 h

Anwendung

Herstellung neuer, innovativer und spezialisierter Metallpulver in kleinen Chargen für Forschung und Entwicklung:

• Legierungen, die auf dem Markt nicht verfügbar sind;
• Edelmetalle, die üblicherweise in kleinen Mengen benötigt werden und bei denen jeglicher Metallverlust vermieden werden muss;
• Pulverwerkstoffe für additive Fertigung (pulverbasierte Verfahren: Laser-/Electron-Beam Melting, Laser Metal Deposition), bei denen hohe Reinheit, Sphärizität und reproduzierbare Partikelgrößenverteilung gefordert sind;
• Kleinmengenproduktionen mit geringstmöglicher Querkontamination und kurzer Prozesszeit, die auf konventionellen Anlagen nicht wirtschaftlich sinnvoll zu realisieren sind.

Zwei Unterschiedliche Materialien sind in situ mischbar oder separat zu verarbeiten.

Technische Spezifikationen

• Nakajima-Stempel Ø 100 mm
• Tiefungsversuche bis zu 400° C durch Beheizung von Stempel und Werkzeugen
• Verschiedene erprobte Schmierungssysteme zur Reibungsminimierung bei unterschiedlichen Temperaturbereichen
• Maximale Stempelkraft bis 1000 kN
• Kraft-Aufzeichnung bis 250 kN
• Weg-Messsystem zur Aufzeichnung des Stempelweges
• Inline-Vermessung der Dehnungen mit Hilfe von optischen Messsystemen (gom ARAMIS)

Anwendung

• Tiefungsversuche nach DIN EN ISO 12004-2 zur Bestimmung von Grenzformänderungskurven für verschiedene Materialien, Blechstärken und Temperaturbereiche

Technische Spezifikationen

• Nakajima-Stempel Ø 100 mm
• Tiefungsversuche bis 800° C in isothermer Ofenatmosphäre
• Schleusensystem zur Probenzuführung
• Maximale Stempelkraft bis 100 kN
• Kraft-Aufzeichnung bis 100 kN
• Weg-Messsystem zur Aufzeichnung des Stempelweges
• Nachträgliche Vermessung der Dehnungen mit Hilfe von optischen Messsystemen (gom ARGUS)

Anwendung

• Tiefungsversuche nach DIN EN ISO 12004-2 zur Bestimmung von Grenzformänderungskurven für verschiedene Materialien, Blechstärken und Temperaturbereiche

Technische Spezifikationen

• 4 Aktuatoren zweier orthogonaler Belastungsachsen in einer Ebene

• Maximale Kräfte je Achse bis 25 kN

• Kraft-Aufzeichnung je Achse bis 25 kN

• Mittelpunktregelung durch Aktuatorsteuerung

• Weg-Messsystem zur Aufzeichnung der Aktuatorbewegungen

• Ermittlung der Dehnungen mit optischen Messsystemen (gom ARAMIS)

Anwendung

• Mehrachsige Zugversuche in der Ebene zur Bestimmung des isotropen und anisotropen Materialverhaltens verschiedener Polymere und faserverstärkten Kunststoffen.

Herstellung von selbstorganisierten kolloidalen Nanokugel-Masken auf Festkörperoberflächen durch Bewegung eines Tropfens

Rakelapparatur:

• Fahrbare Substrathalterung
• Peltier-Probentisch mit einstellbarer Temperatur
• Plexiglas-Handschuhbox mit Trockengaseinlass
• Temperatur- und Luftfeuchte-Überwachung
• Einstellbarer Neigungswinkel der Rakelplatte
• In-situ Beobachtung mit Lichtmikroskop
• Rechnergestützte Steuerung

Kontaktwinkelmessung an Einzelfasern zur Analyse der Benetzbarkeit

• Gewichtsmessung: bis 3 g, Auflösung 0.1 µg
• Probenbühnenposition: Bewegungsbereich 110 mm, Auflösung 0.1 µm, Geschwindigkeit 0.09 - 500 mm/min

Optische Messung von statischen und dynamischen Kontaktwinkeln auf Festkörperoberflächen (Methode des ruhenden Tropfen), Bestimmung von Festkörper-Oberflächenenergien und Oberflächenspannungen von Flüssigkeiten (Methode des hängenden Tropfen)

• Hubtisch (z-Achse)
• Softwaregesteuerte Doppel-Dosiereinheit
• Zoom-Objektiv, Kamera (Auflösung 656x492 px)

Dieser Bereich umfasst Verfahren zur selbstorganisierten Nanostrukturierung und zur Charakterisierung von Oberflächen ebenso wie die Raster- und Transmissionselektronenmikroskopie für hochaufgelöste Abbildung und Analytik.

JEOL JEM-ARM200F: Cs-korrigiertes höchstauflösendes Feldemissions-TEM/STEM

• Beschleunigungsspannung: 30 - 200 kV
• Kalte Feldemissionsquelle
• Beleuchtungsseitiger Cs-Korrektor mit Aberrationskorrektur bis zur 5. Ordnung (CEOS ASCOR)
• TEM-Punktauflösung: 0,19 nm, Informationsgrenze: 0,11 nm
• STEM-Punktauflösung: 0,08 nm bei 200 kV, ≤  0,20 nm bei 30 kV
• Energieauflösung ≤ 0,30 eV (FWHM ZLP)
• 4k x 4k CMOS-Kamera (Gatan OneView)
• 2k x 2k CCD-Kamera (Gatan UltraScan)
• STEM BF-, ABF-, DF-, und HAADF-Detektoren
• 8-fach segmentierter STEM-DF-Detektor für differenzielle Phasenkontrastabbildung
• Energiedispersives Röntgenspektroskopie-System mit SDD-Detektor (JEOL)
• Post-column Energiefilter für EELS, Dual-EELS und EFTEM (Gatan GIF Quantum ER)
• Einfachkipp- , Weitwinkel- und analytischer Doppelkipp- Probenhalter

Jeol JEM-2000FX

• Beschleunigungsspannung: 80 - 200 kV
• Thermionische Elektronenquelle (zur Zeit Wolfram)
• Punkt-Auflösung ~0,3 nm
• Probenhalter: Einfachkipp-Halter, 2 Proben, max. Kippung +/- 30°
• Energiedispersives Röntgenspektroskopie-System: EDAX mit Be-Fenster
• FastScan CCD-Kamera (TVIPS)

• FEG-Emitter
• Beschleunigungsspannung: 0,2 - 30 kV
• Detektoren für Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen
• Point-Electronic-Rastersteuerung und Datenaufnahmeeinheit